Metal Xano - 金屬奈米顆粒製造系統

主要顆粒大小：1 ~ 100 奈米。

純物理程序：簡單、快速、乾淨。

效能與應用

Metal Xano 能製作純金屬或金屬氧化奈米顆粒，主要粒徑為 1 ~ 100 奈米。也可製作金屬奈米片或奈米柱。金屬奈米材料在半導體與生醫工程應用上愈來愈受到重視，像是電子元件、光觸媒、太陽能電池、化粧品、標靶治療、傷口癒合等不勝枚舉。

 

純金奈米粒改善薄膜電阻率

Au_Particle_Size_5nm_XRD

TEM 影像顯示在去離子水中製造出來的奈米金顆粒粒徑約 5 奈米，晶格間距為 0.25 nm，對應金的 (1 1 1) 面。

Au_Particle_Size_5nm_XRD

從 XRD 特徵峰值判斷奈米顆粒為未氧化純金。由 Scherrer 方程式推導得到在 (1 1 1) 晶面之晶粒大小為 6.3 nm、在 (2 0 0) 晶面為 4.3 nm，平均晶粒大小為 5.3 nm。

Au_Particle_Size_Distribution_TEM

從 TEM 影像統計得到主要粒徑分佈為 4 到 10 奈米，平均值為 6.3 nm，與 XRD 分析結果吻合。

 氧化鎢應用於電致變色元件

HPAS standard procedure 05 g

TEM 影像顯示所製作之顆粒粒徑小於 10 奈米。

 

HPAS standard procedure 05 g

從 TEM 影像分析晶面間距可確認材料為 WO3。

 

HPAS standard procedure 05 g

分析 XRD 圖譜，特徵峰與單斜晶 WO3 符合。

 

氧化鋅應用於抗癌、抗菌、糖尿病治療之應用

Zinc_Oxide_1_TEM

TEM 影像顯示所製作之奈米片尺寸大小。 

 

Zinc_Oxide_2_TEM_High

從 TEM 影像分析晶面間距與角度可確認材料為 ZnO。

 

Zinc_Oxide_3_XRD

分析 XRD 圖譜，特徵峰與六方晶 ZnO 吻合。

 

氧化銅應用於抗微生物研究

Copper_Oxide_1_TEM

TEM 影像顯示有許多顆粒聚集 (NPAs)。

Copper_Oxide_2_Profile

從形貌剖面圖可觀察到奈米顆粒尺寸約 20 奈米。

Copper_Oxide_3_XRD

分析 XRD 圖譜，特徵峰與立方晶系 Cu 與 CuO 吻合。

 

比較

奈米材料製作方法

溶液法

熱裂解噴塗、溶膠凝膠沉浸、旋轉塗覆等。

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溶液法通常涉及具毒性前驅物、前處理包含複雜合成步驟、後處理時間長。大量生產時，像是電沉積法、水熱法，會留下大量有害廢料。

 

蒸氣法

熱蒸鍍、射頻濺鍍法、電子束蒸鍍等。

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採用蒸氣法製作需要昂貴的儀器設備。真空腔體尺寸限制所能生產薄膜大小，成為大量生產之瓶頸。

 

 

優點

Nanovie 電爆炸噴鍍技術

成本效益高、對環境友善、大面積薄膜

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Metal Xano 可調整所需之粒徑分佈與生產速率，純物理程序簡單、快速、且不產生危害物質。

Xano Spray Coater 之噴鍍技術可製作出大面積之均勻薄膜（1m X 1m），並容許更多樣化的鍍膜方式。

電爆炸與噴鍍整合技術可以製作不同型態奈米材料，包含奈米顆粒、奈米片、奈米柱與奈米薄膜。

 

簡單 | 快速 | 乾淨

  • 直接生產，無需複雜化學準備或真空環境
  • 爆炸參數設定與生產控制由觸控螢幕操作
  • 物理程序對環境友善，不會產生有害物質

Features & Specifications

  • Metal Xano 為桌上型之金屬奈米顆粒製造系統，採用最新的純物理電爆炸技術，能在溶液中（油酸、去離子水等）製造出純金屬或金屬氧化物之奈米顆粒、奈米片、奈米柱，並能控制粒徑大小分佈。

     

    技術效能
    • 主要粒徑* : 1 ~ 100 nm
    • 產出速率* : 0.1 mg 至 1000 mg/hr 以上
    • 適用金屬 : Pt, Au, Ag, Cu, Zn, W, Ni, Mo, Nb, Ta, V, etc.
    • 金屬線徑 : 0.1 ~ 0.5 mm
    • 薄膜噴鍍 : （選配） Xano Spray Coater.

    * 視材料與參數而有不同

     

    控制項目
    • 爆炸電壓 : 24 / 36 / 48 V ( Optional: 60 / 72 V )
    • 爆炸參數 : 觸控面板設定
    • 機械操作 : 觸控面板控制

     

  • Metal Xano 採用先進軟體設計，提昇了奈米材料之生產速度，同時也確保了奈米級精密製作的可靠度與可重複性。

     

    Explosion Control
    • Parameter configuration: speed, cycle, step...
    • Test and production function
    • Real time status monitoring and warning

     

    Mechanical Control
    • Movement control: gate, stage, feeder...
    • Emergency Hardware shutdown

     

  • 隨著奈米金屬材料在半導體與生醫工程的應用上愈來愈受重視，奈維的 Metal Xano 應用也愈來愈廣泛：

     

    Electronics & Semiconductors
    • Photocatalysis
    • Self-cleaning coating
    • Solar cells
    • Electronic devices
    • Pigments
    • Cosmetics

     

    Biomed & Environment
    • Targeted drug delivery
    • Wound healing
    • Hydrogen production
    • Water purification

     

  • 奈維 Metal Xano 是輕小型的桌上系統：觸控操作，不佔用空間，使用簡便。

    噴鍍系統亦為桌上系統，機台大小視所需製作薄膜尺寸而定，不包含在以下資料中。

     

    Main Body & Electronic Controller

    • Dimension (mm): 230 X 160 X 290(H)
    • Weight (kg): 4.0 kg
    • Power: DC 24V 1A (Input: 100-240V AC @ 50/60Hz)

     

    External Batteries

    • 48V: 4 batteries, 12V each.
    • Optional: 5 or 6 batteries, 12V each.

     

  • Xano Spray Coater (XSC) 為一桌上型噴鍍系統，可在大氣環境下製作大面積薄膜，無需進入真空，也無需進行有毒化學製備。

     

    Output
    • Coating area* : 20 x 20 cm (Standard Stage)
    • Maximum coating area* : 100 x 100 cm (Customised)
    • Heating stage* : room temperature to 400 °C
    • Thin film thickness* : 100 ~ 1,000 nm

    * Customisable.

     

    Control
    • Built-in software control. Configurable parameters.
    • Operation via LCD display and joystick controller.
    • Parameters: flow, speed, path, distance & cycle.